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    粉末原子層沉積系統(tǒng)

    更新時間:2023-11-15
    產品型號:P 系列
    所屬分類:P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)
    描述:P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)是 Forge Nano 針對工業(yè)包覆研發(fā)的粉末 ALD 負載系統(tǒng),可實現(xiàn) kg 級粉末批量包覆,是工業(yè)生產前理想的研發(fā)工具。
    詳情介紹

    P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)

    forge-p系列.jpeg

    粉末包覆可有效提升材料性能與使用壽命,如鋰電正極或負極材料,經過表面包覆處理后在放電性能及循環(huán)使用壽命方面都有明顯提升,但目前工業(yè)的包覆手段以機械混合的干法為主,該方法包覆均勻性較差,性能提升有限。ALD 技術可實現(xiàn)高精度及均勻包覆,是理想的包覆手段。Forge Nano 針對粉末類材料比表面積大的特點,采用流化床技術實現(xiàn)粉末材料的流化,從而保證前驅體與粉末實現(xiàn)充分的接觸。P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)是 Forge Nano 針對工業(yè)包覆研發(fā)的粉末 ALD 負載系統(tǒng),可實現(xiàn) kg 級粉末批量包覆,是工業(yè)生產前理想的研發(fā)工具。


    產品規(guī)格原子層沉積多少錢


    1. 前驅體通道:2-8

    2. 腔室容量:0-600ml

    3. 反應器溫度:450℃

    4. 最高工藝溫度:200℃

    5. 振動流化床反應器

    6. 模塊:流化輔助,質譜,臭氧發(fā)生器,等離子體發(fā)生器


    產品特點


    P 系列是 Forge Nano 專為粉末 ALD 開發(fā)的研發(fā)級工具,可輕松實現(xiàn) kg 的粉末包覆。使用流化床技術可保證粉末在反應器中的分散,有利于前驅體擴散。

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    流化輔助

    粉末在長時間存放或流化不充分時容易出現(xiàn)團聚,導致無法形成理想的流化態(tài)。因此利用流化輔助模塊,高剪切氣流以及振動反應器的設計可沖散團聚顆粒,確保分散效果。


    分區(qū)加熱

    所有前驅體源均可獨立加熱,保證運輸條件,這對于部分低蒸汽壓的前驅體以及敏感的基底材料非常重要。P 系列也擁有*的閥門控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)多通道前驅體輸運。


    在線監(jiān)測

    P 系列配置了氣體在線分析系統(tǒng),對 ALD 工藝的改善有較大幫助,使用者可通過氣體成分判斷反應的完成度。


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    應用

    鋰電池:鋰電正極或負極材料的包覆可有效提升其放電性能及使用壽命。常見的 NCM 與磷酸鐵鋰,在表面包覆 Al2O3 等氧化物薄膜后,在經過多次放電后,仍可保持較高的能量密度。



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    3D 打印:3D 打印粉末存在腐蝕及表面氧化的問題,會影響最終器件的性能。通過表面涂層改性,可有效延緩氧化及腐蝕。傳統(tǒng)的包覆方式是在器件表面進行 ALD 沉積,但對于 3D 打印粉末,直接對原材料粉末改性無疑是更有效的手段。


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    催化:催化反應大多數是發(fā)生在材料表面的界面反應,因此對于催化劑材料進行表面構筑改性是有效的性能提升手段。利用 ALD 可以直接在粉末,纖維材料表面生長高活性納米涂層,另一種方法是利用模板法結合 ALD 在表面構筑特定結構,暴露活性位點。此外,也可以在特定的顆粒表面進行表面包覆,防止催化劑燒結團聚。


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